標題: 路透：上海國資「愛晟納」牽頭DUV光刻機生產　芯片股全 [打印本頁]

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中國國產浸沒式深紫外光（DUV）光刻機據報已進入生產階段，《The Information》周一（27日）指，一家上海國資背景企業擬今年計劃生產約5部，向中芯國際 （00981） 、華虹半導體 （01347） 及長鑫科技（滬：688825）等內地晶圓廠交付；明年產量目標增至約20部。

《路透社》周二（28日）報道，相關企業為上海愛晟納電子科技集團（愛晟納），目前國產DUV光刻機仍處於測試及驗證階段，各方面性能與ASML（美：ASML）光刻機仍存在明顯差距。

DUV是高階芯片製造不可或缺的設備，過去長期被ASML壟斷，而國產DUV光刻機的出現，象徵中國芯片設備自立邁出一大步。惟相關產品在正式導入量產線前，仍需驗證精準度、可靠性及兼容性，過程可能需時數月或更長。

公開資料顯示，愛晟納（上海愛晟納電子科技集團有限公司）於2023年8月在上海成立，註冊資本逾70億元人民幣，業務涵蓋半導體器件專用設備的製造與銷售等領域，僅有上海國際信托和上海電氣控股2名股東。

芯片股全綫下跌    SK海力士暴跌逾14%

消息公布後，美國芯片股率先下跌，ASML跌逾8%，最主要原因，是憂慮中國的競爭力上升，打擊原有廠商的收入，尤其是中國廠商勢優先採購國內的供應鏈。

ASML（美：ASML）跌5.8%，SanDisk（美：SNDK）跌11%，AMD（美：AMD）跌5.2%，美光（Micron，美：MU）跌2.3%，英偉達（Nvidia，美：NVDA）跌5%。

亞太芯片股亦跟跌，SK海力士（韓：000660）暴跌逾14%，三星電子（韓：005930）也挫超過13%，台積電（台：2330）跌3%。

利好AI軟件股

對軟件股來說，整體市場供應增加，則減輕成本壓力。Google母公司Alphabet（美：GOOGL）升2.1%，微軟（美：MSFT）升1.9%，Palantir（美：PLTR）升7%，Adobe升5.6%，

性能仍落後ASML　短期競爭有限

《The Information》引述知情人士表示，中國製DUV光刻機在性能及製造質素方面仍落後ASML，客戶測試結果將用於修正問題及改良設備。該系統大部分零件由中國供應商提供，但部分關鍵零件仍需依賴日本供應商，本地零件延遲交貨亦拖慢今年生產進度。

《The Information》指，國產設備短期內對ASML構成的競爭仍然有限。不過，若西方進一步收緊出口限制，中國晶圓廠可能加快採用本地設備，ASML在中國市場長遠或面臨更大競爭。

明年產量目標增至20部

《The Information》稱，涉事企業整合多家中國公司的浸沒式DUV光刻機研發團隊，包括國資背景芯片設備初創公司上海御良升科技。今年計劃生產約5部設備，明年產量目標增至約20部。

相比之下，ASML去年交付131部浸沒式DUV光刻系統，中國企業現階段產量仍然有限。

初期聚焦成熟製程　EUV仍需數年

中國製浸沒式DUV光刻機初期可用於擴大成熟製程芯片產能，包括AI伺服器及數據中心所需的電源管理芯片。浸沒式DUV設備亦可透過多重曝光技術生產較先進芯片，但成本及製造難度較高；中芯國際目前已利用相關方法生產智能手機及AI系統所需的先進芯片。

另一方面，中國亦正研發國產極紫外光（EUV）光刻機，但目前仍處於原型階段。知情人士估計，相關設備距離實際用於芯片生產仍可能需要數年。

美國擬進一步收緊限制

美國現行出口規則禁止中國晶圓廠購買ASML最先進的EUV光刻設備，令內地企業主要依賴較舊的浸沒式DUV設備。美國國會正審議跨黨派《MATCH Act》，擬擴大對浸沒式DUV設備的出口限制，並限制部分中國晶圓廠取得設備維修服務。

華為協調產業資源推動研發

中國早於2002年已將光刻技術列為國家重點項目。美國2022年全面收緊先進芯片製造技術出口後，北京調整浸沒式DUV設備研發策略，由國家主導研究轉向商業化推進，並由華為協調業界資源。

涉事上海企業屬全國國資支持計劃的一部分，參與者包括中國企業、研究機構及零件供應商。該公司去年已向部分晶圓廠送交原型機，其後根據測試結果改良設備，並於今年開始生產。

HKET