技術突破！中國傳已打造EUV光刻機原型 盼3年後可產AI晶片

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儘管美國對華技術出口管制持續收緊，但中國科學家據報已經打造出極紫外光刻機(EUV)原型，意味着能夠生產可驅動人工智能(AI)的半導體晶片。

外媒報道，中國科學家於深圳實驗室裏打造出EUV原型設備，這台機器今年初已完成，目前正在測試階段，體積幾乎佔滿整個工廠樓層。

報道稱，這台設備由一組來自荷蘭半導體巨頭ASML的前工程師打造，他們對ASML極紫外光刻機(EUV)進行了逆向工程。中國這台設備目前已能運作，並成功產生極紫外光，但尚未製造出可運作的晶片。報道又透露，中國政府目標是2028年實現晶片生產，部分專家則估計要到2030年才量產。

此項計劃據指被形容為中國版的「曼哈頓計劃」(Manhattan Project)，即美國二戰期間研發人類首枚原子彈的秘密軍事計劃。

EUV光刻機能夠利用極紫外光束在硅片上蝕刻電路，能製造出更小、更密集的電路，能提升晶片的效能及效率，從而生產出最先進、高階的晶片。而這項技術一直被西方供應商壟斷。

東網